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三星華為達成和解:持續兩年的專利侵權糾紛結束

 2019-02-27 09:35  來源: A5創業網   我來投稿 撤稿糾錯

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A5創業網(公眾號:iadmin5)2月27日消息,據國外媒體報道,當地時間周二智能手機制造商三星和華為就兩家公司長達兩年的法律糾紛達成和解,要求法院暫停一項專利侵權糾紛的訴訟程序。

據了解,在2016年華為與三星兩家公司相互起訴對方違犯協議、侵犯自己的專利。華為起訴三星非法使用了其技術,其中主要涉及4G通信技術、智能手機操作功能相關軟件。

根據計劃,該案將于今年9月開庭審理,不過,當地時間星期二,華為和三星達成了庭外和解協議,至少和解在美國的訴訟。

據法院聯合文件稱,“雙方達成了和解協議,根據協議,它們將在未來數周采取措施,完成和解訴訟的工作,華為將在30天內提交撤訴文件。”

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